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Titolo: | Implementation of simulation program for modeling the effective resistivity of nanometer scale film and line interconnects / / A. Emre Yarimbiyik [and others] |
Pubblicazione: | [Gaithersburg, MD] : , : U.S. Dept. of Commerce, National Institute of Standards and Technology, , [2006] |
Descrizione fisica: | 1 online resource (21 unnumbered pages) : illustrations |
Soggetto topico: | Nanoelectromechanical systems |
Thin films - Size effects - Computer simulation | |
Altri autori: | AllenRicky BlackburnDavid L SchafftHarry A YarimbiyikA. Emre ZaghloulM. E (Mona Elwakkad) |
Note generali: | "February 2006." |
Contributed record: Metadata reviewed, not verified. Some fields updated by batch processes. | |
Title from page [1], viewed March 7, 2007. | |
Nota di bibliografia: | Includes bibliographical references. |
Titolo autorizzato: | Implementation of simulation program for modeling the effective resistivity of nanometer scale film and line interconnects |
Formato: | Materiale a stampa |
Livello bibliografico | Monografia |
Lingua di pubblicazione: | Inglese |
Record Nr.: | 9910709939003321 |
Lo trovi qui: | Univ. Federico II |
Opac: | Controlla la disponibilità qui |