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Autore: | Townsend, P.D. |
Titolo: | Ion implantation, sputtering and their applications / by P.D. Townsend, J.C. Kelly, N.E.W. Hartley |
Pubblicazione: | London ; New York : Academic Press, 1976 |
Descrizione fisica: | ix, 333 p. : ill. ; 24 cm. |
Soggetto topico: | Ion implantation |
Sputtering (Physics) | |
Classificazione: | 53.7.16 |
53.7.18 | |
530.4'1 | |
QC702.7 | |
Altri autori: | Kelly, John Clive Hartley, N.E.W. |
Note generali: | Includes bibliographies and index. |
ISBN: | 0126969507 |
Formato: | Materiale a stampa |
Livello bibliografico | Monografia |
Lingua di pubblicazione: | Inglese |
Record Nr.: | 991001037629707536 |
Lo trovi qui: | Univ. del Salento |
Opac: | Controlla la disponibilità qui |