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Autore: | Hirsch Samuel G. |
Titolo: | A study on reactive ion etching of barium strontium titanate films using mixtures of argon (Ar), carbon tetrafluoride (CF4), and sulfur hexafluoride (SF6) / / Samuel G. Hirsch [and four others] |
Pubblicazione: | Aberdeen Proving Ground, MD : , : Army Research Laboratory, , July 2014 |
Descrizione fisica: | 1 online resource (iv, 7 pages) : illustrations |
Soggetto topico: | Semiconductors - Etching |
Varactors | |
Note generali: | Title from title screen (viewed Sept. 29, 2015). |
"July 2014." | |
Nota di bibliografia: | Includes bibliographical references. |
Altri titoli varianti: | Study on reactive ion etching of barium strontium titanate films using mixtures of argon |
Titolo autorizzato: | A study on reactive ion etching of barium strontium titanate films using mixtures of argon (Ar), carbon tetrafluoride (CF4), and sulfur hexafluoride (SF6) |
Formato: | Materiale a stampa |
Livello bibliografico | Monografia |
Lingua di pubblicazione: | Inglese |
Record Nr.: | 9910698628803321 |
Lo trovi qui: | Univ. Federico II |
Opac: | Controlla la disponibilità qui |