Ion implantation, sputtering and their applications / by P.D. Townsend, J.C. Kelly, N.E.W. Hartley
(Visualizza in formato marc)
(Visualizza in BIBFRAME)
| Autore: |
Townsend, P.D.
|
| Titolo: |
Ion implantation, sputtering and their applications / by P.D. Townsend, J.C. Kelly, N.E.W. Hartley
|
| Pubblicazione: | London ; New York : Academic Press, 1976 |
| Descrizione fisica: | ix, 333 p. : ill. ; 24 cm. |
| Soggetto topico: | Ion implantation |
| Sputtering (Physics) | |
| Classificazione: | 53.7.16 |
| 53.7.18 | |
| 530.4'1 | |
| QC702.7 | |
| Altri autori: | Kelly, John Clive Hartley, N.E.W. |
| Note generali: | Includes bibliographies and index. |
| ISBN: | 0126969507 |
| Formato: | Materiale a stampa  |
| Livello bibliografico | Monografia |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | 991001037629707536 |
| Lo trovi qui: | Univ. del Salento |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |