Characterization of silicon-gate CMOS/SOS integrated circuits processed with ion implantation / / D.S. Woo
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| Autore: |
Woo D. S.
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| Titolo: |
Characterization of silicon-gate CMOS/SOS integrated circuits processed with ion implantation / / D.S. Woo
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| Pubblicazione: | Marshall Space Flight Center, AL : , : George C. Marshall Space Flight Center, , January 1982 |
| Descrizione fisica: | 1 online resource (v, 12 pages, 1 unnumbered page) : illustrations |
| Soggetto topico: | Computer aided design |
| Coding | |
| Ion implantation | |
| Masks | |
| Electron beams | |
| Note generali: | "January 1982." |
| Nota di bibliografia: | Includes bibliographical reference (page 11). |
| Titolo autorizzato: | Characterization of silicon-gate CMOS |
| Formato: | Materiale a stampa  |
| Livello bibliografico | Monografia |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | 9910709974503321 |
| Lo trovi qui: | Univ. Federico II |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |