Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions / / edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
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| Titolo: |
Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions / / edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
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| Pubblicazione: | Park Ridge, N.J., U.S.A., : Noyes Publications, c1990 |
| Descrizione fisica: | 1 online resource (548 p.) |
| Disciplina: | 621.044 |
| Soggetto topico: | Plasma engineering |
| Semiconductors - Etching | |
| Plasma etching | |
| Altri autori: |
RossnagelStephen M
CuomoJ. J
WestwoodWilliam D <1937-> (William Dickson)
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| Note generali: | Bibliographic Level Mode of Issuance: Monograph |
| Nota di bibliografia: | Includes bibliographical references and index. |
| Sommario/riassunto: | This is a comprehensive overview of the technology of plasma-based processing, written by an outstanding group of 29 contributors. |
| Titolo autorizzato: | Handbook of plasma processing technology |
| ISBN: | 1-282-00277-5 |
| 9786612002762 | |
| Formato: | Materiale a stampa  |
| Livello bibliografico | Monografia |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | 9911006507503321 |
| Lo trovi qui: | Univ. Federico II |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |
Serie:
Materials science and process technology series.