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Titolo: | 2000 5th International Symposium on Plasma Process-Induced Damage : May 22-24, 2000, Santa Clara, California, USA |
Pubblicazione: | [Place of publication not identified], : Northern California Chapter of the American Vacuum Society, 2000 |
Disciplina: | 621.3815/2 |
Soggetto topico: | Semiconductor wafers - Effect of radiation on |
Semiconductors | |
Plasma radiation | |
Electrical & Computer Engineering | |
Engineering & Applied Sciences | |
Electrical Engineering | |
Persona (resp. second.): | GabrielCalvin T |
EngelhardtManfred | |
KoyanagiMitsumasa | |
Note generali: | Bibliographic Level Mode of Issuance: Monograph |
Titolo autorizzato: | 2000 5th International Symposium on Plasma Process-Induced Damage : May 22-24, 2000, Santa Clara, California, USA |
Formato: | Materiale a stampa |
Livello bibliografico | Monografia |
Lingua di pubblicazione: | Inglese |
Record Nr.: | 9910872957903321 |
Lo trovi qui: | Univ. Federico II |
Opac: | Controlla la disponibilità qui |