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Autore: | Schemmel Peter J. |
Titolo: | Microwave photoelasticity : a resonant wavelength approach applied to PEEK polymer / / Peter J. Schemmel and Seth W. Waldstein |
Pubblicazione: | Cleveland, Ohio : , : National Aeronautics and Space Administration, Glenn Research Center, , March 2020 |
Descrizione fisica: | 1 online resource (12 pages) : color illustrations |
Soggetto topico: | Polymers |
PEEK | |
Nondestructive tests | |
Photoelasticity | |
Materials tests | |
Note generali: | "March 2020." |
Nota di bibliografia: | Includes bibliographical references (pages 11-12). |
Altri titoli varianti: | Microwave photoelasticity |
Titolo autorizzato: | Microwave photoelasticity |
Formato: | Materiale a stampa |
Livello bibliografico | Monografia |
Lingua di pubblicazione: | Inglese |
Record Nr.: | 9910713497103321 |
Lo trovi qui: | Univ. Federico II |
Opac: | Controlla la disponibilità qui |