Glow Discharge Processes : sputtering and plasma etching / Brian Chapman
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| Autore: |
Chapman, Brian
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| Titolo: |
Glow Discharge Processes : sputtering and plasma etching / Brian Chapman
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| Pubblicazione: | New York, : Wiley, 1980 |
| Descrizione fisica: | xvi, 406 p. ; 23 cm. |
| Titolo autorizzato: | Glow Discharge Processes |
| ISBN: | 047107828X |
| Formato: | Materiale a stampa  |
| Livello bibliografico | Monografia |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | RML0283694 |
| Lo trovi qui: | Univ. di Cassino |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |