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| Autore: |
Schemmel Peter J.
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| Titolo: |
Microwave photoelasticity : a resonant wavelength approach applied to PEEK polymer / / Peter J. Schemmel and Seth W. Waldstein
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| Pubblicazione: | Cleveland, Ohio : , : National Aeronautics and Space Administration, Glenn Research Center, , March 2020 |
| Descrizione fisica: | 1 online resource (12 pages) : color illustrations |
| Soggetto topico: | Polymers |
| PEEK | |
| Nondestructive tests | |
| Photoelasticity | |
| Materials tests | |
| Note generali: | "March 2020." |
| Nota di bibliografia: | Includes bibliographical references (pages 11-12). |
| Altri titoli varianti: | Microwave photoelasticity |
| Titolo autorizzato: | Microwave photoelasticity ![]() |
| Formato: | Materiale a stampa |
| Livello bibliografico | Monografia |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | 9910713497103321 |
| Lo trovi qui: | Univ. Federico II |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |