Atomic Layer Deposition for Semiconductors / editor Choel Seong Hwang

• Pubblicazione: New York, : Springer, 2014
• Descrizione fisica: X, 263 p. : ill. ; 24 cm
• Persona (resp. second.): Hwang, Choel S.
• Titolo autorizzato: Atomic Layer Deposition for Semiconductors
• Formato: Materiale a stampa
• Livello bibliografico: Monografia
• Lingua di pubblicazione: Inglese
• Record Nr.: VAN00258134
• Lo trovi qui: Univ. Vanvitelli
• Localizzazioni e accesso elettronico: https://link.springer.com/book/10.1007/978-1-4614-8054-9