Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing / edited by André Bouchoule
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| Autore: |
Bouchoule, André
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| Titolo: |
Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing / edited by André Bouchoule
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| Pubblicazione: | Chichester, England ; New York : John Wiley & Sons, c1999 |
| Descrizione fisica: | viii, 408 p. : ill. ; 24 cm. |
| Disciplina: | 53.6.5 |
| 660.044 | |
| TA2020 | |
| Soggetto topico: | Dusty plasmas |
| Plasma chemistry | |
| Plasma engineering | |
| Plasma enhanced chemical vapor deposition | |
| Plasma (Ionized gases)-Industrial applications | |
| Note generali: | Includes bibliographical references and indexes. |
| ISBN: | 0471973866 |
| Formato: | Materiale a stampa  |
| Livello bibliografico | Monografia |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | 991003071579707536 |
| Lo trovi qui: | Univ. del Salento |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |