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Titolo: | Effect of the evaporation temperature of a tetraphenyl-tetramethyl-trisiloxane (Dow-Corning 704) precursor on the properties of silicon containing diamond-like carbon (Si-DLC) coatings synthesized by ion-beam-assisted deposition (IBAD) [[electronic resource] /] / by C. G. Fountzoulas ... [and others] |
Pubblicazione: | Aberdeen Proving Ground, MD : , : Army Research Laboratory, , [1999] |
Descrizione fisica: | viii, 14 pages : digital, PDF file |
Soggetto topico: | Surfaces (Technology) |
Silicon | |
Ion implantation | |
Chemical bonds | |
Altri autori: | FountzoulasC. G (Constantine G.) |
Note generali: | Title from title screen (viewed Feb. 26, 2009). |
"May 1999." | |
Nota di bibliografia: | Includes bibliographical references (page 9). |
Altri titoli varianti: | Effect of the evaporation temperature of a tetraphenyl-tetramethyl-trisiloxane |
Titolo autorizzato: | Effect of the evaporation temperature of a tetraphenyl-tetramethyl-trisiloxane (Dow-Corning 704) precursor on the properties of silicon containing diamond-like carbon (Si-DLC) coatings synthesized by ion-beam-assisted deposition (IBAD) |
Formato: | Materiale a stampa |
Livello bibliografico | Monografia |
Lingua di pubblicazione: | Inglese |
Record Nr.: | 9910698062603321 |
Lo trovi qui: | Univ. Federico II |
Opac: | Controlla la disponibilità qui |