Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography / Seongbo Shim, Youngsoo Shin
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| Autore: |
Shim, Seongbo
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| Titolo: |
Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography / Seongbo Shim, Youngsoo Shin
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| Pubblicazione: | XIV, 138 p., : ill. ; 24 cm |
| Edizione: | Cham : Springer, 2018 |
| Descrizione fisica: | Pubblicazione in formato elettronico |
| Disciplina: | 621.36(Ingegneria ottica. Ottica applicata) |
| 620.5(Nanotecnologia) | |
| 621.39(Microingegneria) | |
| 620.1(Scienza dei materiali) | |
| 541.377(Semiconduttori) | |
| Altri autori: |
Shin, Youngsoo
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| Titolo autorizzato: | Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography |
| Formato: | Materiale a stampa  |
| Livello bibliografico | Monografia |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | SUN0125375 |
| Lo trovi qui: | Univ. Vanvitelli |
| Localizzazioni e accesso elettronico | https://link.springer.com/book/10.1007%2F978-3-319-76294-4#toc |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |
Serie:
NanoScience and Technology Berlin . -Springer.