Rapid thermal annealing-chemical vapor deposition and integrated processing : Symposium held April 25-28, 1989, San Diego CA / edited by David Hodul...[et al.]
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| Autore: |
MRS
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| Titolo: |
Rapid thermal annealing-chemical vapor deposition and integrated processing : Symposium held April 25-28, 1989, San Diego CA / edited by David Hodul...[et al.]
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| Pubblicazione: | Pittsburgh : Materials Research Society, 1989 |
| Descrizione fisica: | xi, 494 p. : ill. ; 24 cm. |
| Soggetto topico: | Semiconductor doping - Congresses |
| Semiconductors-Heat treatment - Congresses | |
| Vapor-plating - Congresses | |
| Classificazione: | 53.8 |
| 53.9.1 | |
| TK7871.85 | |
| Altri autori: | Hodul, David |
| ISBN: | 1558990194 |
| Formato: | Materiale a stampa  |
| Livello bibliografico | Monografia |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | 991001210109707536 |
| Lo trovi qui: | Univ. del Salento |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |
Serie:
MRS Symposium Proceedings ; 146