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| Titolo: |
Ion implantation technology--1998 : 1998 International Conference on Ion Implantation Technology : Proceedings, Kyoto, Japan, June 22-26, 1998
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| Pubblicazione: | [Place of publication not identified], : The Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc, 1998 |
| Disciplina: | 621.3815/2 |
| Soggetto topico: | Semiconductors |
| Ion implantation | |
| Semiconductor doping | |
| Electrical & Computer Engineering | |
| Engineering & Applied Sciences | |
| Electrical Engineering | |
| Persona (resp. second.): | YamadaI |
| MatsuoJ | |
| TakaokaG | |
| Note generali: | Bibliographic Level Mode of Issuance: Monograph |
| Titolo autorizzato: | Ion implantation technology--1998 : 1998 International Conference on Ion Implantation Technology : Proceedings, Kyoto, Japan, June 22-26, 1998 ![]() |
| Formato: | Materiale a stampa |
| Livello bibliografico | Monografia |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | 9910872670803321 |
| Lo trovi qui: | Univ. Federico II |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |