Vai al contenuto principale della pagina

1997 2nd International Symposium on Plasma Process-Induced Damage : 13-14 May 1997, Monterey, California, USA



(Visualizza in formato marc)    (Visualizza in BIBFRAME)

Titolo: 1997 2nd International Symposium on Plasma Process-Induced Damage : 13-14 May 1997, Monterey, California, USA Visualizza cluster
Pubblicazione: [Place of publication not identified], : Northern California Chapter of the American Vacuum Society, 1997
Disciplina: 621.3815/2
Soggetto topico: Semiconductor wafers - Defects
Semiconductors - Effect of radiation on
Plasma etching - Congresses
Electrical & Computer Engineering
Electrical Engineering
Engineering & Applied Sciences
Persona (resp. second.): CheungKin P
NakamuraMoritaka
GabrielCalvin T
Note generali: Bibliographic Level Mode of Issuance: Monograph
Titolo autorizzato: 1997 2nd International Symposium on Plasma Process-Induced Damage : 13-14 May 1997, Monterey, California, USA  Visualizza cluster
Formato: Materiale a stampa
Livello bibliografico Monografia
Lingua di pubblicazione: Inglese
Record Nr.: 996206561003316
Lo trovi qui: Univ. di Salerno
Opac: Controlla la disponibilità qui