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Titolo: | IEEE International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors : RTP |
Pubblicazione: | Piscataway, N.J., : IEEE, ©2002- |
Disciplina: | 537.622 |
Soggetto topico: | Semiconductors - Heat treatment |
Rapid thermal processing | |
Semiconductor doping | |
Semiconductors - Defects | |
Soggetto genere / forma: | Periodicals. |
Conference papers and proceedings. | |
ISSN: | 1944-026X |
Note generali: | Title from PDF of title page (viewed August 10, 2004). |
Titolo abbreviato (Periodici): | INTERNATIONAL CONFERENCE ON ADVANCED THERMAL PROCESSING OF SEMICONDUCTORS |
IEEE Int. Conf. Adv. Therm. Processing Semicond | |
Altri titoli varianti: | RTP |
Advanced thermal processing of semiconductors | |
Rapid Thermal Processing | |
Proceedings of the IEEE International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors | |
Titolo autorizzato: | IEEE International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors |
Formato: | Materiale a stampa |
Livello bibliografico | Periodico |
Lingua di pubblicazione: | Inglese |
Record Nr.: | 996279733603316 |
Lo trovi qui: | Univ. di Salerno |
Opac: | Controlla la disponibilità qui |