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Autore: | MRS |
Titolo: | Rapid thermal annealing-chemical vapor deposition and integrated processing : Symposium held April 25-28, 1989, San Diego CA / edited by David Hodul...[et al.] |
Pubblicazione: | Pittsburgh : Materials Research Society, 1989 |
Descrizione fisica: | xi, 494 p. : ill. ; 24 cm. |
Soggetto topico: | Semiconductor doping - Congresses |
Semiconductors-Heat treatment - Congresses | |
Vapor-plating - Congresses | |
Classificazione: | 53.8 |
53.9.1 | |
TK7871.85 | |
Altri autori: | Hodul, David |
ISBN: | 1558990194 |
Formato: | Materiale a stampa |
Livello bibliografico | Monografia |
Lingua di pubblicazione: | Inglese |
Record Nr.: | 991001210109707536 |
Lo trovi qui: | Univ. del Salento |
Opac: | Controlla la disponibilità qui |