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| Autore: |
Noguchi, Ryo
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| Titolo: |
Designing Topological Phase of Bismuth Halides and Controlling Rashba Effect in Films Studied by ARPES : Doctoral Thesis accepted by The University of Tokyo, Kashiwa, Japan / Ryo Noguchi
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| Pubblicazione: | Singapore, : Springer, 2022 |
| Descrizione fisica: | xv, 126 p. : ill. ; 24 cm |
| Soggetto topico: | 74K35 - Thin films [MSC 2020] |
| 81-XX - Quantum theory [MSC 2020] | |
| 81V35 - Nuclear physics [MSC 2020] | |
| Soggetto non controllato: | Angle-resolved photoemission spectroscopy |
| Higher-order Topological Insulator | |
| Nano-ARPES | |
| Quantum Well State | |
| Rashba Spin-Orbit Coupling | |
| Spin-resolved ARPES | |
| Surface Alloy | |
| Van der Waals Material | |
| Weak Topological Insulator | |
| Titolo autorizzato: | Designing Topological Phase of Bismuth Halides and Controlling Rashba Effect in Films Studied by ARPES ![]() |
| Formato: | Materiale a stampa |
| Livello bibliografico | Monografia |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | VAN00284054 |
| Lo trovi qui: | Univ. Vanvitelli |
| Localizzazioni e accesso elettronico | https://doi.org/10.1007/978-981-19-1874-2 |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |