Principles of plasma discharges and materials processing / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
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| Autore: |
Lieberman, Michael A.
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| Titolo: |
Principles of plasma discharges and materials processing / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
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| Pubblicazione: | Hoboken, N.J. : Wiley-Interscience, c2005 |
| Edizione: | 2nd ed. |
| Descrizione fisica: | xxxv, 757 p. : ill. ; 25 cm |
| Disciplina: | 530.4/4 |
| Soggetto topico: | Plasma dynamics |
| Thin films - Surfaces | |
| Plasma etching | |
| Plasma chemistry - Industrial applications | |
| Classificazione: | LC QC718.5.D9 |
| 53.6.5 | |
| Altri autori: | Lichtenberg, Allan J. |
| Nota di bibliografia: | Includes bibliographical references (p. 735-748) and index |
| ISBN: | 9780471720010 |
| Formato: | Materiale a stampa  |
| Livello bibliografico | Monografia |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | 991002310519707536 |
| Lo trovi qui: | Univ. del Salento |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |