Vai al contenuto principale della pagina
| Titolo: |
Intellectual property & technology law journal / / edited by the Technology and Proprietary Rights group of Weil, Gotshal & Manges LLP
|
| Pubblicazione: | New York, NY, : Aspen Law & Business, c2000- |
| Descrizione fisica: | 1 online resource |
| Disciplina: | 346 |
| Soggetto topico: | Intellectual property |
| Industrial property | |
| Note generali: | Refereed/Peer-reviewed |
| Title from caption. | |
| Titolo abbreviato (Periodici): | INTELLECTUAL PROPERTY AND TECHNOLOGY LAW JOURNAL |
| Intellect. prop. technol. law j. | |
| Altri titoli varianti: | Intellectual property and technology law journal |
| Titolo autorizzato: | Intellectual property & technology law journal ![]() |
| Formato: | Materiale a stampa |
| Livello bibliografico | Periodico |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | 9910339740103321 |
| Lo trovi qui: | Univ. Federico II |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |