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Kurzvorträge Posterblock 1 -- 1 Large-area deposition of thin crystalline MoS2 films on 200 mm wafers using plasmaassisted atomic layer deposition / J. Jagosz1, L. Willeke1, M. Becher1, A. Ostendorf1, P. Plate2, C. Bock1 -- 1Ruhr-Universität Bochum; 2Sentech Instruments GmbH, Berlin -- 2 Heterointegration von III-V basierten Resonanztunneldioden Oszillatoren/Detektoren und Heterobipolartransistor MMICs für kompakte THz Module / C. Preuss, R. Kress, E. Mutlu, K. Müller, A. Poßberg, W. Prost, N. Weimann, Universität DuisburgEssen -- 3 Rapid thermal annealing and reduction process monitoring of graphene oxide thin film -- on chip / H. Amiri1,2, A. Nikookhesal1, D. Murugan1, S. Scholz3, M. Frentzen3, Y. Cao1, X. T. Vu1, U. Schnakenberg1, V. Sai4, M. S. Narayanan5, J. Knoch3, S. Ingebrandt1, V. Pachauri1 1RWTH Aachen University; 2Politecnico di Milano, Italy; 3RWTH Aachen University; 4Indian Institute of Technology Madras, India; 5Indian Institute of Technology Madras, India -- 4 Cu particle free inks for printed electronics application-challenges and solutions / N. Mohan, R. Saccon, S. K. Bhogaraju, G. Elger, Technische Hochschule Ingolstadt -- 5 Cu sintering for high power electronics packaging - challenges and solutions / R. Saccon, S. K. Bhogaraju, G. Elger, Technische Hochschule Ingolstadt -- 6 Laserinduzierte Verringerung des Metall-Graphen-Kontaktwiderstands / V. Jangra1, S. Kataria1, M. C. Lemme1,2 1RWTH Aachen University, 2AMO GmbH, Advanced Microelectronic Center Aachen -- 7 Graphen/Cynanin-Farbstoff-basierte hochempfindliche flexible Photodetektoren / B. Uzlu1,2, S. Stoll1,2, O. Yakar1,2, D. S. Schneider1, E. M. Özalp1,2, D. Neumaier1,3, S. Balci4, Z. Wang1,2, M. C. Lemme1,2 1AMO GmbH, Advanced Microelectronic Center Aachen; 2RWTH Aachen University; -- 3Bergische Universität Wuppertal; 4Izmir Institute of Technology, Izmir, Türkei -- Kurzvorträge Posterblock 2 -- 8 Non-fully gold nanohole array fabricated by nanoimprint lithography / R. Zhu1,2, M. Prömpers1, A. Offenhäusser1, D. Mayer1 1Forschungszentrum Jülich GmbH; 2RWTH Aachen University, Aachen -- 9 CMOS-compatible fabrication of perforated membranes for filtration applications / N. Brechmann1, M. Michel1, A. Pickhinke2, N. Schierbaum1, K. Seidl1 1Fraunhofer IMS, Duisburg; 2University of Duisburg-Essen -- 10 Tabakmosaikviren als "Nanocarrier" zur Anbindung von Biomolekülen auf kapazitiven Feldeffektsensoren / F. Vahidpour1, M. Welden1,2, A. Poghossian3, T. Wendlandt4, C. Wege4, M. Keusgen2, M. J. Schöning1,5 1FH Aachen, 2Philipps Universität Marburg; 3MicroNanoBio, Düsseldorf; 4Universität Stuttgart 5Forschungszentrum Jülich GmbH -- 11 Modellierung und Experimente von Gold-Nanopartikel-modifizierten Feldeffektstrukturen / T. Karschuck1,2, A. Poghossian3, P. H. Wagner2, M. J. Schöning1,4 1FH Aachen; 2KU Leuven, Belgium; 3MicroNanoBio, Düsseldorf; 4Forschungszentrum Jülich GmbH -- 12 Kompakter optischer Quantensensor basierend auf NV-Zentren in Diamant / M. Bähr1,2, M. Jahn1, C. Heinze1, K. Neckermann1, J. Meijer2, T. Ortlepp1 1CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH, Erfurt; 2Leipzig University -- 13 In-plane thermal diffusivity measurements of Parylene C thin films with an RTD sensor array on a SiNx membrane / F. Jiang1, L. Schaller1, M. Ryu2, J. Morikawa3, S. Ingebrandt1, X. T. Vu1 1RWTH Aachen University; 2National Metrology Institute of Japan (NMIJ), National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan; 3School of Materials and Chemical Technology, Tokyo Institute of Technology, Japan Kurzvorträge Posterblock 3 -- 14 Zinc Oxide Nanowire Arrays Growth on Patterned Silicon Substrate for Piezoelectric Energy Harvesting / F. E. Anang1,2, Z. Wang1, J. Xu1, A. Schmidt1, M. Cain3, E. Peiner1 1TU Braunschweig; 2Scientific Metrology Department, Ghana Standards Authority, Ghana; 3Electrosciences Ltd, Farnham, Surrey, UK -- 15 Elektrodenfeld für die zweidimensionale Charakterisierung nanostrukturierter Materialien / U. Pliquett, C. Gansauge, D. Echtermeyer, Institut für Bioprozess- und Analysenmesstechnik e.V., Heilbad Heiligenstadt -- 16 Herstellung flexibler Foliensysteme durch Flip-Chip Bonden gedünnter Chips auf Kontaktpads mit Nanodrähten / B. Albrecht1, U. Passlack1, C. Harendt1, F. Weißenborn2, O. Birlem2, S. Quednau2, J. N. Burghartz1 1Institut für Mikroelektronik IMS CHIPS, Stuttgart; 2NanoWired GmbH, Gernsheim -- 17 Modellbasiertes Reaktives Fügen / A. Belguanche1, A. Schumacher2, N. Desch1, A. Benachour1, J. Böttcher3, G. Dietrich3, E. Pflug3, I. Spies2, P. Meyer2, B. Folkmer2, S. Knappmann2, P. Farber1, J. Gräbel1, M. Lake1, A. Dehé2 1Hochschule Niederrhein; 2Hahn-Schickard, Villingen-Schwenningen; 3Fraunhofer IWS, Dresden -- 18 Membranbasierte Drucksensoren basierend auf Nanogranularen Tunnelwiderständen für medizinische Anwendungen / A.-K. Klein, T. Goschurny, P. Bieschke, A. Kaya, NanoScale Systems, Nanoss GmbH, Darmstadt -- 19 Numerical Sensitivity Analysis of Microelectrodes for Multi-Local Impedance Measurements on Needles / J. Liu, Ö. Atmaca, T. J. Ly, P. P. Pott, University of Stuttgart -- 20 Erhöhung des Technologie-Reifegrades von Silicium-Gras zur Breitbandigen Entspiegelung von Siliciumoberflächen / M. Hillebrand1, A. C. Thewes1, M. Hoffmann1, L. Bindel2, A. Isserstedt-Trinke2, S. Biermann2, S. Gaßner3, C. Travan3, U. Glock3 1Ruhr-Universität Bochum; 2Micro-Hybrid Electronic GmbH, Hermsdorf; 3Infineon Technologies AG, Neubiberg Kurzvorträge Posterblock 4 -- 21 Comparative study of wafer-scale Al2O3 layers made by thermal and plasma-enhanced -- ALD / L. Willeke1, J. Jagosz1, N. Gerke1, P. Plate2, M. Hoffmann1, C. Bock1 1Ruhr-Universität Bochum; 2Sentech Instruments GmbH, Berlin, Germany -- 22 Plasmonic Metamaterial Absorber for Multispectral MWIR Microbolometers / A. Litke1, E. Zakizade1, M. Michel1, D. Dittrich1, S. Weyers1, A. Lena Schall-Giesecke1,2 1Fraunhofer IMS, Duisburg, 2University of Duisburg-Essen, Duisburg -- 23 Miniaturisierte kapazitive Feldeffekt-Sensoren mit atomlagenabgeschiedenem Ta2O5 auf ultradünnen Isolatoren / H. Iken1, A. L. Johnen1, D. Molinnus1,2, B. Richstein2, L. Hellmich2, A. Poghossian3, J. Knoch2, M. J. Schöning1,4 1FH Aachen; 2RWTH Aachen University, 3MicroNanoBio, Düsseldorf; 4Forschungszentrum Jülich GmbH -- 24 Effective MEMS Manufacturing Using Vapor HF Etch Processing Illustrated by Means of a Sterilization Cycle Counter / N. Baum1, R. Vora2, G. Endress2, I. Spies3, D. Hoffmann3, H. Trautner3, C. Blattert2,3, A. Dehé3, D. Anderson4, T. O'Hara4 1veonis Technololgies GmbH, Puchheim; 2Albert-Ludwigs-University Freiburg; 3Hahn-Schickard, Villingen-Schwenningen; 4memstar Ltd., Livingston, UK -- 25 Plasmaunterstützte Atomlagenabscheidung (ALD) von Al2O3 für Isolationsschichten in EWOD-Systemen / P. Conrad, L. Willeke, M. Hoffmann, Ruhr-Universität Bochum -- 26 Fabrication of distributed bragg reflectors to reduce coupling losses of photonic circuits / M. L. Vermeer, N. K. Alhareeb, H. K. Trieu, T. Lipka, Hamburg University of Technology -- 27 Glass-on-Glass Integrated Optofluidic Sensor based on a-Si:H Ring Resonators for Lab-onChip Applications / N. K. Alhareeb, M. L. Vermeer, L. Rennpferdt, H. K. Trieu, T. Lipka, Hamburg University of Technology.
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Info
Kommunikationskabelnetze; 30. ITG-Fachtagung
