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Accurate linewidth measurements on integrated-circuit photomasks / / John M. Jerke
Accurate linewidth measurements on integrated-circuit photomasks / / John M. Jerke
Autore Jerke John M
Pubbl/distr/stampa Gaithersburg, MD : , : U.S. Dept. of Commerce, National Institute of Standards and Technology, , 1980
Descrizione fisica 1 online resource
Altri autori (Persone) JerkeJohn M
Collana NBS special publication
Formato Materiale a stampa
Livello bibliografico Monografia
Lingua di pubblicazione eng
Record Nr. UNINA-9910709506203321
Jerke John M  
Gaithersburg, MD : , : U.S. Dept. of Commerce, National Institute of Standards and Technology, , 1980
Materiale a stampa
Lo trovi qui: Univ. Federico II
Opac: Controlla la disponibilità qui
Interlaboratory study on linewidth measurements for antireflective chromium photomasks / / John M. Jerke, M. Carroll Croarkin, Ruth N. Varner
Interlaboratory study on linewidth measurements for antireflective chromium photomasks / / John M. Jerke, M. Carroll Croarkin, Ruth N. Varner
Autore Jerke John M
Pubbl/distr/stampa Gaithersburg, MD : , : U.S. Dept. of Commerce, National Institute of Standards and Technology, , 1982
Descrizione fisica 1 online resource
Altri autori (Persone) CroarkinM. Carroll
JerkeJohn M
VarnerRuth N
Collana NBS special publication
Formato Materiale a stampa
Livello bibliografico Monografia
Lingua di pubblicazione eng
Record Nr. UNINA-9910709504903321
Jerke John M  
Gaithersburg, MD : , : U.S. Dept. of Commerce, National Institute of Standards and Technology, , 1982
Materiale a stampa
Lo trovi qui: Univ. Federico II
Opac: Controlla la disponibilità qui