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Atomic Layer Deposition for Semiconductors / editor Choel Seong Hwang
Atomic Layer Deposition for Semiconductors / editor Choel Seong Hwang
Pubbl/distr/stampa New York, : Springer, 2014
Descrizione fisica X, 263 p. : ill. ; 24 cm
Formato Materiale a stampa
Livello bibliografico Monografia
Lingua di pubblicazione eng
Record Nr. UNICAMPANIA-VAN0258134
New York, : Springer, 2014
Materiale a stampa
Lo trovi qui: Univ. Vanvitelli
Opac: Controlla la disponibilità qui
Atomic Layer Deposition for Semiconductors / editor Choel Seong Hwang
Atomic Layer Deposition for Semiconductors / editor Choel Seong Hwang
Pubbl/distr/stampa New York, : Springer, 2014
Descrizione fisica X, 263 p. : ill. ; 24 cm
Formato Materiale a stampa
Livello bibliografico Monografia
Lingua di pubblicazione eng
Record Nr. UNICAMPANIA-VAN00258134
New York, : Springer, 2014
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