Metal Impurities in Silicon- and Germanium-Based Technologies : Origin, Characterization, Control, and Device Impact / Cor Claeys, Eddy Simoen |
Autore | Claeys, Cor |
Pubbl/distr/stampa | Cham, : Springer, 2018 |
Descrizione fisica | XXXIII, 438 p. : ill. ; 24 cm |
Disciplina |
621.36(Ingegneria ottica. Ottica applicata)
620.1(Scienze dei materiali) 541.377(Semiconduttori) 537.5344(Microonde e onde a frequenza ultraalta) |
Altri autori (Persone) | Simoen, Eddy |
Formato | Materiale a stampa |
Livello bibliografico | Monografia |
Lingua di pubblicazione | eng |
Record Nr. | UNICAMPANIA-VAN0125711 |
Claeys, Cor | ||
Cham, : Springer, 2018 | ||
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Metal Impurities in Silicon- and Germanium-Based Technologies : Origin, Characterization, Control, and Device Impact / Cor Claeys, Eddy Simoen |
Autore | Claeys, Cor |
Pubbl/distr/stampa | Cham, : Springer, 2018 |
Descrizione fisica | XXXIII, 438 p. : ill. ; 24 cm |
Disciplina |
621.36(Ingegneria ottica. Ottica applicata)
620.1(Scienze dei materiali) 541.377(Semiconduttori) 537.5344(Microonde e onde a frequenza ultraalta) |
Altri autori (Persone) | Simoen, Eddy |
Formato | Materiale a stampa |
Livello bibliografico | Monografia |
Lingua di pubblicazione | eng |
Record Nr. | UNICAMPANIA-VAN00125711 |
Claeys, Cor | ||
Cham, : Springer, 2018 | ||
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Metal Impurities in Silicon- and Germanium-Based Technologies : Origin, Characterization, Control, and Device Impact / Cor Claeys, Eddy Simoen |
Autore | Claeys, Cor |
Edizione | [Cham : Springer, 2018] |
Pubbl/distr/stampa | XXXIII, 438 p., : ill. ; 24 cm |
Descrizione fisica | Pubblicazione in formato elettronico |
Disciplina |
621.36(Ingegneria ottica. Ottica applicata)
620.1(Scienza dei materiali) 541.377(Semiconduttori) 537.5344(Microonde e onde a frequenza ultraalta) |
Altri autori (Persone) | Simoen, Eddy |
Formato | Materiale a stampa |
Livello bibliografico | Monografia |
Lingua di pubblicazione | eng |
Record Nr. | UNICAMPANIA-SUN0125711 |
Claeys, Cor | ||
XXXIII, 438 p., : ill. ; 24 cm | ||
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