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| Autore: |
Bowen, David Keith <1940- >
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| Titolo: |
X-ray metrology in semiconductor manufacturing / D. Keith Bowen, Brian K. Tanner
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| Pubblicazione: | Boca Raton [etc.], : CRC, : Taylor & Francis, 2006 |
| Descrizione fisica: | 279 p. : ill. ; 25 cm. |
| Disciplina: | 621.3815 |
| 621.38152 | |
| Soggetto topico: | Semiconduttori |
| Raggi X - Diffrazione | |
| Altri autori: |
Tanner, Brian K.
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| Titolo autorizzato: | X-ray metrology in semiconductor manufacturing ![]() |
| ISBN: | 0849339286 |
| Formato: | Materiale a stampa |
| Livello bibliografico | Monografia |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | NAP0472458 |
| Lo trovi qui: | Univ. del Sannio |
| Collocazione: | SALA DING 621.3815 BOW.xr |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |