IEEE International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors : RTP
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| Titolo: |
IEEE International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors : RTP
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| Pubblicazione: | Piscataway, N.J., : IEEE, ©2002- |
| Disciplina: | 537.622 |
| Soggetto topico: | Semiconductors - Heat treatment |
| Rapid thermal processing | |
| Semiconductor doping | |
| Semiconductors - Defects | |
| Semi-conducteurs - Traitement thermique | |
| Recuit thermique rapide | |
| Semi-conducteurs - Dopage | |
| Semi-conducteurs - Défauts | |
| Soggetto genere / forma: | Periodicals. |
| Conference papers and proceedings. | |
| ISSN: | 1944-026X |
| Note generali: | Title from PDF of title page (viewed August 10, 2004). |
| Titolo abbreviato (Periodici): | IEEE Int. Conf. Adv. Therm. Processing Semicond |
| Altri titoli varianti: | RTP |
| Advanced thermal processing of semiconductors | |
| Rapid Thermal Processing | |
| Proceedings of the IEEE International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors | |
| Titolo autorizzato: | IEEE International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors |
| Formato: | Materiale a stampa  |
| Livello bibliografico | Periodico |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | 9910625192903321 |
| Lo trovi qui: | Univ. Federico II |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |