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1998 3rd International Symposium on Plasma Process-Induced Damage : June 4-5, 1998, Honolulu, Hawaii, USA



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Titolo: 1998 3rd International Symposium on Plasma Process-Induced Damage : June 4-5, 1998, Honolulu, Hawaii, USA Visualizza cluster
Pubblicazione: [Place of publication not identified], : Northern California Chapter of the American Vacuum Society, 1998
Disciplina: 621.3815/2
Soggetto topico: Semiconductor wafers - Defects
Semiconductors - Effect of radiation on
Plasma etching
Electrical & Computer Engineering
Engineering & Applied Sciences
Electrical Engineering
Persona (resp. second.): HookTerence
NakamuraMoritaka
DaoLeanne Thuy Lien
Note generali: Bibliographic Level Mode of Issuance: Monograph
Titolo autorizzato: 1998 3rd International Symposium on Plasma Process-Induced Damage : June 4-5, 1998, Honolulu, Hawaii, USA  Visualizza cluster
Formato: Materiale a stampa
Livello bibliografico Monografia
Lingua di pubblicazione: Inglese
Record Nr.: 9910872956003321
Lo trovi qui: Univ. Federico II
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