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Titolo: | Federal statutory protection for mask works |
Pubblicazione: | Washington, DC : , : U.S. Copyright Office, Library of Congress |
Descrizione fisica: | 1 online resource |
Soggetto topico: | Copyright - United States |
Design protection - United States | |
Semiconductors | |
Titolo autorizzato: | Federal statutory protection for mask works |
Formato: | Materiale a stampa |
Livello bibliografico | Periodico |
Lingua di pubblicazione: | Inglese |
Record Nr.: | 9910702679403321 |
Lo trovi qui: | Univ. Federico II |
Opac: | Controlla la disponibilità qui |