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Federal statutory protection for mask works



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Titolo: Federal statutory protection for mask works Visualizza cluster
Pubblicazione: Washington, DC : , : U.S. Copyright Office, Library of Congress
Descrizione fisica: 1 online resource
Soggetto topico: Copyright - United States
Design protection - United States
Semiconductors
Titolo autorizzato: Federal statutory protection for mask works  Visualizza cluster
Formato: Materiale a stampa
Livello bibliografico Periodico
Lingua di pubblicazione: Inglese
Record Nr.: 9910702679403321
Lo trovi qui: Univ. Federico II
Opac: Controlla la disponibilità qui