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Autore: | Haydary Juma |
Titolo: | Chemical process design and simulation : Aspen Plus and Aspen Hysys applications / / Juma Haydary |
Pubblicazione: | Hoboken, NJ : , : John Wiley & Sons, Inc. : , : American Institute of Chemical Engineers, , [2019] |
©2019 | |
Descrizione fisica: | 1 online resource (438 pages) |
Disciplina: | 660.28 |
Soggetto topico: | Chemical processes - Computer simulation |
Chemical engineering - Computer simulation | |
Soggetto genere / forma: | Electronic books. |
Titolo autorizzato: | Chemical process design and simulation |
ISBN: | 1-5231-4388-6 |
1-119-31143-8 | |
1-119-31144-6 | |
1-119-31147-0 | |
Formato: | Materiale a stampa |
Livello bibliografico | Monografia |
Lingua di pubblicazione: | Inglese |
Record Nr.: | 9910555240503321 |
Lo trovi qui: | Univ. Federico II |
Opac: | Controlla la disponibilità qui |