Mikro-Nano-Integration : Beiträge des 9. GMM-Workshops 21. - 22.11.2022 in Aachen / / edited by Martin Hoffmann

• Pubblicazione: Berlin : , : VDE, , 2022
• Descrizione fisica: 1 online resource (131 pages)
• Disciplina: 621.381
• Soggetto topico: Microelectronics; Nanostructures
• Persona (resp. second.): HoffmannMartin
• Nota di contenuto: Kurzvorträge Posterblock 1 -- 1 Large-area deposition of thin crystalline MoS2 films on 200 mm wafers using plasmaassisted atomic layer deposition / J. Jagosz1, L. Willeke1, M. Becher1, A. Ostendorf1, P. Plate2, C. Bock1 -- 1Ruhr-Universität Bochum; 2Sentech Instruments GmbH, Berlin -- 2 Heterointegration von III-V basierten Resonanztunneldioden Oszillatoren/Detektoren und Heterobipolartransistor MMICs für kompakte THz Module / C. Preuss, R. Kress, E. Mutlu, K. Müller, A. Poßberg, W. Prost, N. Weimann, Universität DuisburgEssen -- 3 Rapid thermal annealing and reduction process monitoring of graphene oxide thin film -- on chip / H. Amiri1,2, A. Nikookhesal1, D. Murugan1, S. Scholz3, M. Frentzen3, Y. Cao1, X. T. Vu1, U. Schnakenberg1, V. Sai4, M. S. Narayanan5, J. Knoch3, S. Ingebrandt1, V. Pachauri1 1RWTH Aachen University; 2Politecnico di Milano, Italy; 3RWTH Aachen University; 4Indian Institute of Technology Madras, India; 5Indian Institute of Technology Madras, India -- 4 Cu particle free inks for printed electronics application-challenges and solutions / N. Mohan, R. Saccon, S. K. Bhogaraju, G. Elger, Technische Hochschule Ingolstadt -- 5 Cu sintering for high power electronics packaging - challenges and solutions / R. Saccon, S. K. Bhogaraju, G. Elger, Technische Hochschule Ingolstadt -- 6 Laserinduzierte Verringerung des Metall-Graphen-Kontaktwiderstands / V. Jangra1, S. Kataria1, M. C. Lemme1,2 1RWTH Aachen University, 2AMO GmbH, Advanced Microelectronic Center Aachen -- 7 Graphen/Cynanin-Farbstoff-basierte hochempfindliche flexible Photodetektoren / B. Uzlu1,2, S. Stoll1,2, O. Yakar1,2, D. S. Schneider1, E. M. Özalp1,2, D. Neumaier1,3, S. Balci4, Z. Wang1,2, M. C. Lemme1,2 1AMO GmbH, Advanced Microelectronic Center Aachen; 2RWTH Aachen University; -- 3Bergische Universität Wuppertal; 4Izmir Institute of Technology, Izmir, Türkei -- Kurzvorträge Posterblock 2 -- 8 Non-fully gold nanohole array fabricated by nanoimprint lithography / R. Zhu1,2, M. Prömpers1, A. Offenhäusser1, D. Mayer1 1Forschungszentrum Jülich GmbH; 2RWTH Aachen University, Aachen -- 9 CMOS-compatible fabrication of perforated membranes for filtration applications / N. Brechmann1, M. Michel1, A. Pickhinke2, N. Schierbaum1, K. Seidl1 1Fraunhofer IMS, Duisburg; 2University of Duisburg-Essen -- 10 Tabakmosaikviren als "Nanocarrier" zur Anbindung von Biomolekülen auf kapazitiven Feldeffektsensoren / F. Vahidpour1, M. Welden1,2, A. Poghossian3, T. Wendlandt4, C. Wege4, M. Keusgen2, M. J. Schöning1,5 1FH Aachen, 2Philipps Universität Marburg; 3MicroNanoBio, Düsseldorf; 4Universität Stuttgart 5Forschungszentrum Jülich GmbH -- 11 Modellierung und Experimente von Gold-Nanopartikel-modifizierten Feldeffektstrukturen / T. Karschuck1,2, A. Poghossian3, P. H. Wagner2, M. J. Schöning1,4 1FH Aachen; 2KU Leuven, Belgium; 3MicroNanoBio, Düsseldorf; 4Forschungszentrum Jülich GmbH -- 12 Kompakter optischer Quantensensor basierend auf NV-Zentren in Diamant / M. Bähr1,2, M. Jahn1, C. Heinze1, K. Neckermann1, J. Meijer2, T. Ortlepp1 1CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH, Erfurt; 2Leipzig University -- 13 In-plane thermal diffusivity measurements of Parylene C thin films with an RTD sensor array on a SiNx membrane / F. Jiang1, L. Schaller1, M. Ryu2, J. Morikawa3, S. Ingebrandt1, X. T. Vu1 1RWTH Aachen University; 2National Metrology Institute of Japan (NMIJ), National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan; 3School of Materials and Chemical Technology, Tokyo Institute of Technology, Japan Kurzvorträge Posterblock 3 -- 14 Zinc Oxide Nanowire Arrays Growth on Patterned Silicon Substrate for Piezoelectric Energy Harvesting / F. E. Anang1,2, Z. Wang1, J. Xu1, A. Schmidt1, M. Cain3, E. Peiner1 1TU Braunschweig; 2Scientific Metrology Department, Ghana Standards Authority, Ghana; 3Electrosciences Ltd, Farnham, Surrey, UK -- 15 Elektrodenfeld für die zweidimensionale Charakterisierung nanostrukturierter Materialien / U. Pliquett, C. Gansauge, D. Echtermeyer, Institut für Bioprozess- und Analysenmesstechnik e.V., Heilbad Heiligenstadt -- 16 Herstellung flexibler Foliensysteme durch Flip-Chip Bonden gedünnter Chips auf Kontaktpads mit Nanodrähten / B. Albrecht1, U. Passlack1, C. Harendt1, F. Weißenborn2, O. Birlem2, S. Quednau2, J. N. Burghartz1 1Institut für Mikroelektronik IMS CHIPS, Stuttgart; 2NanoWired GmbH, Gernsheim -- 17 Modellbasiertes Reaktives Fügen / A. Belguanche1, A. Schumacher2, N. Desch1, A. Benachour1, J. Böttcher3, G. Dietrich3, E. Pflug3, I. Spies2, P. Meyer2, B. Folkmer2, S. Knappmann2, P. Farber1, J. Gräbel1, M. Lake1, A. Dehé2 1Hochschule Niederrhein; 2Hahn-Schickard, Villingen-Schwenningen; 3Fraunhofer IWS, Dresden -- 18 Membranbasierte Drucksensoren basierend auf Nanogranularen Tunnelwiderständen für medizinische Anwendungen / A.-K. Klein, T. Goschurny, P. Bieschke, A. Kaya, NanoScale Systems, Nanoss GmbH, Darmstadt -- 19 Numerical Sensitivity Analysis of Microelectrodes for Multi-Local Impedance Measurements on Needles / J. Liu, Ö. Atmaca, T. J. Ly, P. P. Pott, University of Stuttgart -- 20 Erhöhung des Technologie-Reifegrades von Silicium-Gras zur Breitbandigen Entspiegelung von Siliciumoberflächen / M. Hillebrand1, A. C. Thewes1, M. Hoffmann1, L. Bindel2, A. Isserstedt-Trinke2, S. Biermann2, S. Gaßner3, C. Travan3, U. Glock3 1Ruhr-Universität Bochum; 2Micro-Hybrid Electronic GmbH, Hermsdorf; 3Infineon Technologies AG, Neubiberg Kurzvorträge Posterblock 4 -- 21 Comparative study of wafer-scale Al2O3 layers made by thermal and plasma-enhanced -- ALD / L. Willeke1, J. Jagosz1, N. Gerke1, P. Plate2, M. Hoffmann1, C. Bock1 1Ruhr-Universität Bochum; 2Sentech Instruments GmbH, Berlin, Germany -- 22 Plasmonic Metamaterial Absorber for Multispectral MWIR Microbolometers / A. Litke1, E. Zakizade1, M. Michel1, D. Dittrich1, S. Weyers1, A. Lena Schall-Giesecke1,2 1Fraunhofer IMS, Duisburg, 2University of Duisburg-Essen, Duisburg -- 23 Miniaturisierte kapazitive Feldeffekt-Sensoren mit atomlagenabgeschiedenem Ta2O5 auf ultradünnen Isolatoren / H. Iken1, A. L. Johnen1, D. Molinnus1,2, B. Richstein2, L. Hellmich2, A. Poghossian3, J. Knoch2, M. J. Schöning1,4 1FH Aachen; 2RWTH Aachen University, 3MicroNanoBio, Düsseldorf; 4Forschungszentrum Jülich GmbH -- 24 Effective MEMS Manufacturing Using Vapor HF Etch Processing Illustrated by Means of a Sterilization Cycle Counter / N. Baum1, R. Vora2, G. Endress2, I. Spies3, D. Hoffmann3, H. Trautner3, C. Blattert2,3, A. Dehé3, D. Anderson4, T. O'Hara4 1veonis Technololgies GmbH, Puchheim; 2Albert-Ludwigs-University Freiburg; 3Hahn-Schickard, Villingen-Schwenningen; 4memstar Ltd., Livingston, UK -- 25 Plasmaunterstützte Atomlagenabscheidung (ALD) von Al2O3 für Isolationsschichten in EWOD-Systemen / P. Conrad, L. Willeke, M. Hoffmann, Ruhr-Universität Bochum -- 26 Fabrication of distributed bragg reflectors to reduce coupling losses of photonic circuits / M. L. Vermeer, N. K. Alhareeb, H. K. Trieu, T. Lipka, Hamburg University of Technology -- 27 Glass-on-Glass Integrated Optofluidic Sensor based on a-Si:H Ring Resonators for Lab-onChip Applications / N. K. Alhareeb, M. L. Vermeer, L. Rennpferdt, H. K. Trieu, T. Lipka, Hamburg University of Technology.
• Sommario/riassunto: Mikrosysteme nutzen heute in großem Umfang Nanostrukturen, um Sprünge in der Leistungsfähigkeit oder gänzlich neuartige Funktionen zu erreichen. Viele innovative Ideen aus der universitären Forschung haben Eingang in die industrielle Umsetzung gefunden. Dies sollte Motivation sein, auch weiterhin Ideen für funktionale Nanostrukturen in Mikrosystemen zu erforschen und in Anwendungen zu evaluieren. Der Workshop bietet die ideale Gelegenheit, Ideen und Konzepte vorzustellen und zu diskutieren. Unsere Keynotes präsentieren anschauliche Beispiele für eine erfolgreiche Transformation von Forschungsergebnissen in industrielle Anwendungen.
• Altri titoli varianti: GMM-Fb. 105
• Titolo autorizzato: Mikro-Nano-Integration
• ISBN: 3-8007-5991-8
• Formato: Materiale a stampa
• Livello bibliografico: Monografia
• Lingua di pubblicazione: Inglese
• Record Nr.: 996577917703316
• Lo trovi qui: Univ. di Salerno