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| Autore: |
Haydary Juma
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| Titolo: |
Chemical process design and simulation : Aspen Plus and Aspen Hysys applications / / Juma Haydary
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| Pubblicazione: | Hoboken, NJ : , : John Wiley & Sons, Inc. : , : American Institute of Chemical Engineers, , [2019] |
| ©2019 | |
| Descrizione fisica: | 1 online resource (438 pages) |
| Disciplina: | 660.28 |
| Soggetto topico: | Chemical processes - Computer simulation |
| Chemical engineering - Computer simulation | |
| Titolo autorizzato: | Chemical process design and simulation ![]() |
| ISBN: | 1-5231-4388-6 |
| 1-119-31143-8 | |
| 1-119-31144-6 | |
| 1-119-31147-0 | |
| Formato: | Materiale a stampa |
| Livello bibliografico | Monografia |
| Lingua di pubblicazione: | Inglese |
| Record Nr.: | 9910830395903321 |
| Lo trovi qui: | Univ. Federico II |
| Opac: | Controlla la disponibilità qui |