LEADER 01090nam a2200253 i 4500
001 991000885049707536
005 20020507102747.0
008 930519s1989    |||           ||| |  ita 
035   $ab10143300-39ule_inst
035   $aLE00638558$9ExL
040   $aDip.to Fisica$bita
100 1 $aRizzo, Antonella$0461612
245 10$aDeposizione mediante sputtering reattivo e caratterizzazione di film sottili di TeOx /$claureanda Antonella Rizzo ; relatori Angelo Rizzo, Bruno Antonini e Massimo Di Giulio
260   $aLecce :$bUniversità degli studi, Lecce. Facoltà di Scienze. Corso di laurea in Fisica,$ca.a. 1989-90
300   $a147 p.
700 1 $aAntonini, B.
700 1 $aRizzo, A.
700 1 $aDi Giulio, Massimo
907   $a.b10143300$b02-04-14$c27-06-02
912   $a991000885049707536
945   $aLE006 T486$g1$iLE006-T486$lle006$o-$pE0.00$q-$rn$so  $t0$u0$v0$w0$x0$y.i10170364$z27-06-02
996   $aDeposizione mediante sputtering reattivo e caratterizzazione di film sottili di TeOx$9186856
997   $aUNISALENTO
998   $ale006$b01-01-93$cm$da  $e-$feng$gxx $h0$i1