1.

Record Nr.

UNINA9910135026603321

Titolo

Future trends in microelectronics : Journey into the unknown / / edited by Serge Luryi, Jimmy Xu, Alexander Zaslavsky

Pubbl/distr/stampa

Hoboken, New Jersey : , : IEEE Press : , : Wiley, , 2016

©2016

ISBN

1-119-06918-1

1-119-06917-3

1-119-06922-X

Descrizione fisica

1 online resource (383 p.)

Disciplina

621.381

Soggetti

Microelectronics - Technological innovations

Nanotechnology - Technological innovations

Semiconductors - Technological innovations

Lingua di pubblicazione

Inglese

Formato

Materiale a stampa

Livello bibliografico

Monografia

Note generali

Description based upon print version of record.

Nota di bibliografia

Includes bibliographical references at the end of each chapters and index.

Nota di contenuto

Cover            ; Title Page                 ; Copyright                ; Contents               ; List of Contributors                           ; Preface              ; Acknowledgments                      ; Part I Future of Digital Silicon; 1.1 Prospects of Future Si Technologies in the Data-Driven World; 1. Introduction                      ; 2. Memory - DRAM                       ; 3. Memory - NAND                       ; 4. Logic technology                          ; 5. CMOS image sensors                            ; 6. Packaging technology

7. Silicon photonics technology                                      8. Concluding remarks                            ; Acknowledgments                      ; References                 ; 1.2 How Lithography Enables Moore's Law; 1. Introduction                      ; 2. Moore's Law and the contribution of lithography                                                         ; 3. Lithography technology: past and present                                                  ; 4. Lithography technology: future                                        ; 5. Summary

6. Conclusion                    Acknowledgments                      ; References                 ; 1.3 What Happened to Post-CMOS?; 1. Introduction                      ; 2. General constraints on speed and energy                                                



; 3. Guidelines for success                                ; 4. Benchmarking and examples                                   ; 5. Discussion                    ; 6. Conclusion                    ; Acknowledgments                      ; References

1.4 Three-Dimensional Integration of Ge and Two-Dimensional Materials for One-Dimensional Devices1. Introduction                      ; 2. FEOL technology and materials for 3D integration                                                          ; 3. Integration of ""more than Moore"" functionality                                                        ; 4. Implications of 3D integration at the system level                                                            ; 5. Conclusion                    ; Acknowledgments                      ; References

1.5 Challenges to Ultralow-Power Semiconductor Device Operation1. Introduction                      ; 2. Ultimate MOS transistors                                  ; 3. Small slope switches                              ; 4. Conclusion                    ; Acknowledgments                      ; References                 ; 1.6 A Universal Nonvolatile Processing Environment; 1. Introduction                      ; 2. Universal nonvolatile processing environment

3. Bias-field-free spin-torque oscillator